三星电子2021年研发投入创造性高，设施投资中90%在半导体部门

韩联社报道，据DRAM3月8日发布的一份年度报告，Corporation前年的设备投资、研制出经费和员工仅均创发展史新颇高。具体来看，DRAM去设备投资为48.2万亿韩元（相等于人民币2468亿元），同比增约25%，研制出投资为22.5965万亿韩元，同比增加1.3735万亿韩元，创发展史新颇高，员工仅大幅提高11.3485万人，创纪录发展史最颇高纪录，平均月薪为1.44亿韩元。

设备投资除此以外43.567万亿韩元投入生产积体电路主管，比积体电路行业鼎盛期的2017年（43.4万亿韩元）还颇高。Corporation为LCD主管投资2.6133万亿韩元，为其他工程建设投资2.0419万亿韩元。

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